GB/T 26070-2010 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法
Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method
资源信息
| 标准号 | GB/T 26070-2010 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2011-01-10 | 实施日期 | 2011-10-01 |
| 发布单位 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 国家标准委 | ||
标准状态：现行标准号：GB/T 26070-2010标准名：化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法标准英文名：Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method批准发布部门：国家标准委中国标准分类号：H17国际标准分类号：77.040.99标准层级：GBT推荐性国家标准
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