GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

资源信息

标准号 GB/T 39145-2020 标准状态 现行
发布日期 2020-10-11 实施日期 2021-09-01
发布单位 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位 国家标准委

标准状态:现行
标准号:GB/T 39145-2020
标准名:硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
标准英文名:Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
批准发布部门:国家标准委
中国标准分类号:H17
国际标准分类号:77.040
标准层级:GBT推荐性国家标准

提示

本站资源均来自互联网公开发布和用户分享,仅供参考,勿用于任何商业用途

相关内容

  1. T/CPIA 0022-2020 光伏硅片制造业绿色工厂评价要求
  2. DB31/ 792-2020 硅单晶及其硅片单位产品能源消耗限额
  3. GB/T 6621-2009 硅片表面平整度测试方法
  4. GB/T 32814-2016 硅基MEMS制造技术 基于SOI硅片的MEMS工艺规范
  5. GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法
  6. GB/T 34479-2017 硅片字母数字标志规范
  7. GB/T 26068-2018 硅片和硅锭载流子复合寿命的测试 非接触微波反射光电导衰减法
  8. GB/T 26067-2010 硅片切口尺寸测试方法
  9. GB/T 43315-2023 硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法
  10. DB35/T 1346-2013 草珊瑚苗木培育技术规程