T/ZZB 2833-2022 高压MOSFET用200 mm硅外延片
200 mm silicon epitaxial wafers for high voltage MOSFET
资源信息
| 标准号 | T/ZZB 2833-2022 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2022-12-08 | 实施日期 | 2022-12-31 |
| 发布单位 | |||
| 归口单位 | |||
标准状态:现行标准号:T/ZZB 2833-2022标准名:高压MOSFET用200 mm硅外延片标准英文名:200 mm silicon epitaxial wafers for high voltage MOSFET团体名称:浙江省品牌建设联合会包含专利:否中国标准分类号:H82国际标准分类号:29.045行业分类:C398 电子元件及电子专用材料制造标准层级:团体标准主要技术内容:本文件规定了高压MOSFET用200 mm硅外延片(以下简称硅外延片)的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、 质量证明书、 运输和贮存及质量承诺。本文件适用于直径为200 mm、外延层厚度为40 μm~80 μm、在n型重掺砷硅抛光片上生长n型掺磷外延层、晶向的硅外延片。产品主要用于制作高压金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET) 器件(简称高压MOSFET) 。起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司、金瑞泓科技(衢州)有限公司起草人:许峰、李慎重、李刚、刘红方、朱华英、李方虎、李艳玲
提示
本站资源均来自互联网公开发布和用户分享,仅供参考,勿用于任何商业用途