GB/T 35310-2017 200mm硅外延片

200mm silicon epitaxial wafer

资源信息

标准号 GB/T 35310-2017 标准状态 现行
发布日期 2017-12-29 实施日期 2018-07-01
发布单位 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位 国家标准委

标准状态:现行
标准号:GB/T 35310-2017
标准名:200mm硅外延片
标准英文名:200mm silicon epitaxial wafer
批准发布部门:国家标准委
中国标准分类号:H82
国际标准分类号:29.045
标准层级:GBT推荐性国家标准

提示

本站资源均来自互联网公开发布和用户分享,仅供参考,勿用于任何商业用途

相关内容

  1. GB/T 30110-2013 空间红外探测器碲镉汞外延材料参数测试方法
  2. GB/T 8758-2006 砷化镓外延层厚度红外干涉测量方法
  3. GB/T 11068-2006 砷化镓外延层载流子浓度电容-电压测量方法
  4. GB/T 14142-2017 硅外延层晶体完整性检验方法 腐蚀法
  5. GB/T 14139-2019 硅外延片
  6. GB/T 14146-2021 硅外延层载流子浓度的测试 电容-电压法
  7. T/ZZB 2833-2022 高压MOSFET用200 mm硅外延片
  8. GB/T 30652-2023 硅外延用三氯氢硅
  9. GB/T 10962-2022 机床电器可靠性评价通则