GB/T 43894.3-2026 半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分：扇形区域平整度法（ESFQR、ESFQD、ESBIR）
Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 3:Sector area flatness(ESFQR，ESFQD，ESBIR）
资源信息
| 标准号 | GB/T 43894.3-2026 | 标准状态 | 即将实施 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2026-07-02 | 实施日期 | 2027-02-01 |
| 发布单位 | 国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 国家标准委 | ||
标准状态：即将实施标准号：GB/T 43894.3-2026标准名：半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分：扇形区域平整度法（ESFQR、ESFQD、ESBIR）标准英文名：Practice for determining semiconductor wafer near-edge geometry—Part 3:Sector area flatness(ESFQR，ESFQD，ESBIR）批准发布部门：国家标准委中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040标准层级：GBT推荐性国家标准
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