T/ZZB 0648-2018 200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片
200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers
资源信息
| 标准号 | T/ZZB 0648-2018 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2018-10-19 | 实施日期 | 2018-11-01 |
| 发布单位 | |||
| 归口单位 | |||
标准状态:现行标准号:T/ZZB 0648-2018标准名:200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片标准英文名:200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers团体名称:浙江省品牌建设联合会包含专利:否中国标准分类号:H82国际标准分类号:29.045行业分类:C397 电子器件制造标准层级:团体标准主要技术内容:本标准规定了200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单(或合同)内容和质量承诺。本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料,采用直拉法制备的直径为200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底。起草单位:浙江金瑞泓科技股份有限公司、金瑞泓科技(衢州)有限公司起草人:许峰、朱华英、陈平人、田达晰、梁兴勃、刘红方、李方虎、李艳玲
提示
本站资源均来自互联网公开发布和用户分享,仅供参考,勿用于任何商业用途
相关内容
- T/NXCL 017-2022 300 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片
- GB/T 29506-2013 300mm 硅单晶抛光片
- GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
- GB/T 30712-2014 抛光钻石质量测量允差的规定
- GB/T 19921-2018 硅抛光片表面颗粒测试方法
- T/FSCPLC 01-2022 陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系
- T/NXCL 016-2022 200 mm重掺锑直拉硅单晶抛光片
- GB/T 26065-2010 硅单晶抛光试验片规范
- T/FSCS 001-2022 陶瓷抛光企业清洁生产评价指标体系
- T/CNTAC 25-2018 高支轻薄衬衫