GB/T 41325-2022 集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片
Low density crystal originated pit polished monocrystalline silicon wafers for integrated circuit
资源信息
| 标准号 | GB/T 41325-2022 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2022-03-09 | 实施日期 | 2022-10-01 |
| 发布单位 | 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 国家标准委 | ||
标准状态：现行标准号：GB/T 41325-2022标准名：集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片标准英文名：Low density crystal originated pit polished monocrystalline silicon wafers for integrated circuit批准发布部门：国家标准委中国标准分类号：H82国际标准分类号：29.045标准层级：GBT推荐性国家标准
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