GB/T 34900-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
资源信息
| 标准号 | GB/T 34900-2017 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2017-11-01 | 实施日期 | 2018-05-01 |
| 发布单位 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 国家标准委 | ||
标准状态：现行标准号：GB/T 34900-2017标准名：微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法标准英文名：Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer批准发布部门：国家标准委中国标准分类号：L55国际标准分类号：31.200标准层级：GBT推荐性国家标准
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