GB/T 24578-2024 半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法
Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
资源信息
| 标准号 | GB/T 24578-2024 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2024-07-24 | 实施日期 | 2025-02-01 |
| 发布单位 | 国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 国家标准委 | ||
标准状态：现行标准号：GB/T 24578-2024标准名：半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法标准英文名：Test method for measuring surface metal contamination on semiconductor wafers —Total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy批准发布部门：国家标准委中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040标准层级：GBT推荐性国家标准
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