GB/T 14847-2025 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法
Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method
资源信息
| 标准号 | GB/T 14847-2025 | 标准状态 | 即将实施 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2025-10-31 | 实施日期 | 2026-05-01 |
| 发布单位 | 国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 国家标准委 | ||
标准状态：即将实施标准号：GB/T 14847-2025标准名：重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的测试 红外反射法标准英文名：Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates—Infrared reflectance method批准发布部门：国家标准委中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040标准层级：GBT推荐性国家标准
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