T/STIC 110080-2022 化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻
Loose laboratory-grown diamond by chemical vapor deposition technique
资源信息
| 标准号 | T/STIC 110080-2022 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2022-07-30 | 实施日期 | 2022-08-10 |
| 发布单位 | |||
| 归口单位 | |||
标准状态:现行标准号:T/STIC 110080-2022标准名:化学气相沉积法(CVD)培育钻石裸钻标准英文名:Loose laboratory-grown diamond by chemical vapor deposition technique团体名称:上海市检验检测认证协会包含专利:否中国标准分类号:D 59国际标准分类号:39.060行业分类:C243 工艺美术品制造标准层级:团体标准主要技术内容:本文件规定了化学气相沉积法(以下简称CVD)培育钻石裸钻的产品特性、技术要求、检验方法、检验规则、包装与标志等方面的内容。本文件适用于颜色级别为D~F色,净度级别为FL~VS1,质量大于或等于0.6000g(3.00ct)CVD培育钻石裸钻的生产、检验和销售。起草单位:上海征世科技股份有限公司、上海铂世光半导体科技有限公司、上海钲戴梦商贸有限公司、武汉工程大学材料科学与工程学院、方圆标志认证集团上海有限公司、上海市检验检测认证协会起草人:龚闯、满卫东、胡庆坡、韩初、杨春梅、杨武、骆海燕、高春燕、郑学东
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