T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱

资源信息

标准状态：现行
标准号：T/CSTM 01199-2024
标准名：多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
标准英文名：Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy
团体名称：中关村材料试验技术联盟
包含专利：否
中国标准分类号：H80
国际标准分类号：29.045
行业分类：M745 质检技术服务
标准层级：团体标准
适用范围:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。 本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
主要技术内容：本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
起草单位：季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司
起草人：范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋，江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜