T/CSEA 26-2023 电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件

Technical specification of 8YSZ target for Electron Beam Physical Vapor Deposition

资源信息

标准号 T/CSEA 26-2023 标准状态 现行
发布日期 2023-02-07 实施日期 2023-03-01
发布单位
归口单位

标准状态:现行
标准号:T/CSEA 26-2023
标准名:电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材 技术条件
标准英文名:Technical specification of 8YSZ target for Electron Beam Physical Vapor Deposition
团体名称:中国表面工程协会
包含专利:否
国际标准分类号:25.220.01 表面处理和镀涂综合
行业分类:C336 金属表面处理及热处理加工
标准层级:团体标准
适用范围:本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆(ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3)原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证,标志、包装、运输和贮存等。 本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。
主要技术内容:本文件规定了采用化学共沉淀法、电熔法合成的高纯氧化钇部分稳定氧化锆(ZrO2(HfO2)-7~8 wt. %Y2O3)原材料所制备的陶瓷靶材的技术要求、质量保证,标志、包装、运输和贮存等。本文件适用于电子束物理气相沉积用8YSZ陶瓷靶材。
起草单位:北京金轮坤天特种机械有限公司、中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司、北京航空航天大学
起草人:何箐、邹晗、王世兴、王璐、彭徽

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