T/CPPIA 34-2024 光致抗蚀干膜用聚酯基膜

资源信息

标准状态：现行
标准号：T/CPPIA 34-2024
标准名：光致抗蚀干膜用聚酯基膜
标准英文名：Polyester base film for photoresist dry film
团体名称：中国塑料加工工业协会
包含专利：是
中国标准分类号：G33
国际标准分类号：83.140.10 薄膜和薄板
行业分类：C292 塑料制品业
标准层级：团体标准
适用范围:本文件规定了光致抗蚀干膜用聚酯基膜（以下简称“基膜”）的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。 适用于以聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂为主要原料，添加适量母料，经熔融挤出、双向拉伸工艺制成的用于光致抗蚀干膜用途的聚酯薄膜的生产、检验和销售。
主要技术内容：4　要求 4.1　外观 4.1.1 膜卷 膜卷应收卷整齐、松紧一致，无接头、跑边、皱筋、划伤、切口毛边、油污及任何影响适用性的缺陷。 4.1.2 表面缺陷 表面缺陷应符合表1要求。 4.2　尺寸及偏差 4.2.1 厚度偏差 产品公称厚度范围一般在15μm～23μm，厚度偏差应符合表2的要求。 4.2.2 宽度和长度偏差 应符合表3的要求。 4.3　物理性能 应符合表4的要求。
起草单位：富维薄膜（山东）有限公司、常州钟恒新材料股份有限公司、杭州和顺科技股份有限公司、康辉新材料科技有限公司
起草人：叶世强、孟凡、毛广源、胡爱娟、袁文新、刘俊萍、陈正坚、郭凤刚、张文闯