T/ACCEM 515-2025 高性能高密度沟槽栅IGBT器件
资源信息
| 标准号 | T/ACCEM 515-2025 | 标准状态 | 现行 |
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| 发布日期 | 2025-03-20 | 实施日期 | 2025-04-18 |
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标准状态:现行标准号:T/ACCEM 515-2025标准名:高性能高密度沟槽栅IGBT器件团体名称:中国商业企业管理协会包含专利:否中国标准分类号:L 42国际标准分类号:31.080.01 半导体器分立件综合行业分类:C397 电子器件制造标准层级:团体标准主要技术内容:本文件规定了高性能高密度沟槽栅IGBT器件的结构、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于高性能高密度沟槽栅IGBT器件的生产和检验。起草单位:青岛佳恩半导体有限公司、青岛佳恩半导体科技有限公司、深圳佳恩功率半导体有限公司、苏州创芯致尚微电子有限公司起草人:王丕龙、王新强、何钧、李学贵、张凯、吴洪基、陈佳恩、侯彩侠、王永铖、朱建英、朱加庚、马丽娜、李娜、武瑶萍、邓颖、谭文涛、贾洪玉、李永、郑建国、杨玉珍、秦鹏海、李婉秋、刘增、豆坤、李晓东、李大鑫
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