GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
资源信息
| 标准号 | GB/T 29658-2013 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2013-09-06 | 实施日期 | 2014-05-01 |
| 发布单位 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 中国有色金属工业协会 | ||
标准状态:现行标准号:GB/T 29658-2013标准名:电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材标准英文名:High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film批准发布部门:中国有色金属工业协会中国标准分类号:H61国际标准分类号:77.120.10标准层级:GBT推荐性国家标准
提示
本站资源均来自互联网公开发布和用户分享,仅供参考,勿用于任何商业用途
相关内容
- GB/T 35795-2017 全生物降解农用地面覆盖薄膜
- GB/T 24123-2009 电容器用金属化薄膜
- GA/T 460.4-2020 居民身份证卡体材料及打印薄膜技术规范 第4部分:制卡用模块、线圈承载层白色PETG薄膜
- GB/T 36289.2-2018 晶体硅太阳电池组件用绝缘薄膜 第2部分:氟塑料薄膜
- T/SGX 013-2022 聚对苯二甲酸-己二酸丁二酯/聚乳酸薄膜专用料
- GA/T 460.5-2020 居民身份证卡体材料及打印薄膜技术规范 第5部分:打印薄膜
- GB/T 30091-2013 薄膜键盘技术条件
- GB/T 30447-2013 纳米薄膜接触角测量方法
- GB/T 29330-2012 模内装饰(IMD)用薄膜 油墨粘接性能测定方法
- GB/T 39564.1-2020 光纤到户用多电信业务经营者共用型配线设施 第1部分:光缆交接箱