GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
资源信息
| 标准号 | GB/T 14849.4-2014 | 标准状态 | 现行 |
|---|---|---|---|
| 发布日期 | 2014-12-05 | 实施日期 | 2015-08-01 |
| 发布单位 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 | ||
| 归口单位 | 中国有色金属工业协会 | ||
标准状态：现行标准号：GB/T 14849.4-2014标准名：工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法标准英文名：Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method批准发布部门：中国有色金属工业协会中国标准分类号：H12国际标准分类号：77.120.10标准层级：GBT推荐性国家标准
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